半導體芯片檢測顯微鏡

微分干涉金相顯微鏡(晶圓金相顯微鏡）：DMM-1200C 一、微分干涉金相顯微鏡儀器的主要用途和特點     DMM-1200微分干涉金相顯微鏡（DIC)采用優質的無限遠光學系統，微分干涉相襯顯微鏡適用于對多種物體的顯微觀察。配置落射DIC觀察系統與透射照明系統、無限遠長距平場消色差物鏡、大視野目鏡和偏光觀察裝置，具有圖像立體感且清晰、操作方便等特點，是生物學、金屬學、礦物學、精密工程學、電子學等研究的理想儀器，可選用微分干涉（DIC）觀測、獲得高清晰的圖像，使圖像襯度更好,是針對半導體晶圓檢測、太陽能硅片制造業、電子信息產業、治金工業開發的，作為工業金相顯微鏡使用;可進行明場觀察、落射偏光、DIC觀察，廣泛用于工廠、研究機構、高等院校對太陽能電池硅片、半導體晶圓檢測、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。    DMM-1200C微分干涉金相顯微鏡是將的光學顯微鏡技術、優良的光電轉換技術、數碼成像技術緊密地結合在一起而開發研制成功的理想產品。既可人工觀察金相圖像,又可以在數碼相機上很方便地適時觀察金相圖像，并可隨時拍攝記錄金相圖片,從而對金相圖譜進行分析,評級等,還可以保存或打印出高像素金相照片。     二、大平臺微分干涉金相顯微鏡儀器的主要技術指標 金相顯微鏡組件及規格 光學系統 無窮遠光學系統 主機 DMM-1200倒置金相顯微鏡主機 目鏡 大視野 WF10X(Φ22mm) WF15X(Φ16mm) WF20X(Φ12mm) 平場分劃 10X/Φ20mm(0.10mm/格值) 物鏡 無限遠長工作距離平場消色差   放大倍數/數值孔徑 有效工作距離 PL5X/0.12 26.1 PLL10X/0.25 20.2 PLL20X/0.4 8.8 PLL40X/0.6 3.98 目鏡筒 三目鏡 鉸鏈式，傾斜30度，分光比：觀察80% 攝影20%；或觀察100% 攝影100% 濾片組 全系列濾色片 物鏡轉換器 五孔物鏡轉換器 調焦機構 同軸粗微動調焦機構,帶鎖緊和限位裝置, 調焦范圍30mm 微動格值0.8μm 載物臺 臺面尺寸：280mm*270mm; 移動范圍：橫向（X）204mm，縱向（Y）204mm 照明系統 落射照明12V/50W，鹵素燈，中心、亮度連續可調 微分干涉 可使用于5X、10X、20X 三、大平臺微分干涉金相顯微鏡系統的組成 1、金相顯微鏡DMM-1200　　　　　　 　　　   2、數碼適配鏡 3、彩色數碼相機 4、計算機（選購） 四、大平臺微分干涉金相顯微鏡選購部分 1.金相分析軟件 五 、大平臺微分干涉金相顯微鏡同類儀器的比較 1、DMM-1200C電腦微分干涉顯微鏡 2、DMM-1200D數碼微分干涉顯微鏡   六、大平臺微分干涉金相顯微鏡相關設備 金相設備 金相拋光機 金相切割機 金相砂紙 金相切割片 金相鑲嵌機 金相預磨機 顯微硬度計 端淬試驗機

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